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      PECVD系統(tǒng)
PECVD系統(tǒng)
 
PECVD系統(tǒng) 產品簡介為了降低化學沉積溫度，利用了等離子體的活性來促進反應，這種CVD系統(tǒng)稱之為等離子.....更多>>
      CVD系統(tǒng)
CVD系統(tǒng)
 
 CVD系統(tǒng)產品簡介 常規(guī)CVD系統(tǒng)由管式爐、流量混合器、真空體統(tǒng)三部分組成。改系統(tǒng)可以滿足絕大部.....更多>>
      旋轉管式爐
旋轉管式爐
 
旋轉管式爐 產品簡介旋轉管式爐是指爐管通過電機驅動實現360°正反轉，讓內部的粉狀或顆粒狀樣品能夠充.....更多>>
1500-1700℃多溫區(qū)管式爐
 
1500-1700℃多溫區(qū)管式爐產品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置.....更多>>
1500-1700℃單溫區(qū)管式爐
 
1500-1700℃單溫區(qū)管式爐 產品簡介高溫管式爐主要用在高于1200℃的氣氛反應燒結中，其中1500型管式爐可.....更多>>
1200℃三溫區(qū)管式爐
 
1200℃三溫區(qū)管式爐產品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置為同一.....更多>>
1200℃雙溫區(qū)管式爐
 
1200℃雙溫區(qū)管式爐產品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置為同一.....更多>>
1200℃單溫區(qū)管式爐
 
1200℃單溫區(qū)管式爐產品簡介1200℃管式爐是在實驗室熱處理中常用的一款設備，主要用于氣氛保護或者氣氛反應.....更多>>
1200℃迷你型管式爐
 
1200℃迷你型管式爐產品簡介這款迷你型管式爐體積小巧，性價比極高，而且可以滿足絕大部分氣氛環(huán)境下的實驗.....更多>>
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